65nm制程浸润式光刻机2230i的基础上,研发成功全球第一款45nm制程浸润式光刻机3360i,已经通过国家光刻机专家组 鉴定,并向中国专利局和世界专利局同时申请公司发明专利,计划7月下旬量产。PGCA半导体公司已经预定一条45nm制程半导体生产线。” 6月8日,周四晚上,尼康公司常务副总裁原田弘树打电话给社长兼CEO森佳照明,大家最担心的事情还是发生了。 近一周过去,应邀参观DSP-100干式光刻机的晶圆大厂的代表没有任何预定的消息,PGCA和TTFAB可以理解,但Intel、AMD、台积电、三星和联电等方面也没有预定产品的意向,亲自负责DSP-100干式光刻机预定的常务 副总裁原田弘树预感不妙,一直关注BSEC、AMD和ASML的...

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